等離子體射流源處理材料表面研究

低溫等離子體的特殊性能可以對金屬、半導體、高分子材料等進行表面改性。材料表面改性的等離子體改性技術已廣泛應用于電子、機械、紡織、生物醫學工程等領域。

目前，低溫等離子體與材料相互作用的研究已經發展成為國際上活躍的領域。研究其相互作用的物理化學過程機理，是發展微電子學、固體表面改性、功能材料等材料領域里的重要課題。低溫等離子體高的活性，在室溫下可以引起多種化學反應或物理摻雜，而基質材料的本體性能不受影響。

等離子體化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）方法已廣泛用于制備功能材料，顯示出低溫等離子體對材料表面改性有著較大的優勢。

通過低溫等離子體表面處理，材料表面發生多種的物理，化學變化，或產生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯層，或引入含氧極性基團，使材料的親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。

低溫等離子體技術在有機材料上的應用有很大的優勢，它的優點如下：①屬于干式工藝，省能源，無公害，滿足節能和環保的需要；②時間短，效率高；③對所處理的材料無嚴格要求，具有普遍適應性；④可處理形狀復雜的材料，材料表面處理的均勻性好；⑤反應環境溫度低；⑥對材料表面的作用僅涉及幾到幾百納米，材料表面性能改善的同時，基體性能不受影響。

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